技术简介： 本发明涉及蒽醌染料废水的光催化氧化处理，具体地说是一种用于蒽醌染料废水处理的光催化氧化方法，首先用酸或碱调节蒽醌染料废水的pH值≤12，再加入催化剂，一次性鼓入空气，然后在光照培养箱中…… 查看详细 >
技术简介： 本发明涉及氯酚污染物的光降解去除方法，具体地说是一种太阳照射下海水催化降解氯酚类污染物的方法，以天然海水为稀释液，将氯酚类污染物稀释成质量浓度为1-300mg/L的氯酚类溶液，反应容器为透…… 查看详细 >
技术简介： 本发明涉及一种加工具有微孔的RB-SiC表面加工及处理方法，在RB-SiC基底采用表面沉积或能流注入方法产生致密化的加工层；然后对致密化的加工层进行常规精抛光加工，再采用纳米抛光方法对加工层进…… 查看详细 >
技术简介： 本发明涉及白宝石晶体的表面加工方法，具体地说是用重量浓度30-50％二氧化硅水溶液进行化学机械抛光，精抛光的操作条件为：溶液PH值为9～11，温度控制在22～25℃，机床转速为40～100转/分，抛光…… 查看详细 >
技术简介： 本发明涉及一种亚稳态储能粒子-SiO(b3∏)的合成装置，高温热解炉为管式结构，其由外向内依次为密封外壳、保温层和炉膛，在炉膛的中部轴向设置有热电偶，炉膛外壁缠绕有电热丝；SiH4储气瓶经气体…… 查看详细 >
技术简介： 本发明涉及相变材料的制备方法，具体的说是一种具有较高相变潜热，并且在固体和液体状态下均具有很高导热系数的复合相变材料的制备方法。按如下步骤制备：1)制备金属纳米线；2)将金属纳米线分散…… 查看详细 >
技术简介： 氯氟烃（CFCs）在现代生活中曾起着非常重要的作用，广泛用作致冷剂、发泡剂、喷雾剂及清洗剂等。但CFCs排放到大气中会引发臭氧链式分解，破坏臭氧层。CFCs催化加氢脱氯生产HFCs可以消除消耗臭氧…… 查看详细 >
技术简介： 四氟化碳（CF4）是目前微电子工业中用量最大的等离子体刻蚀气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻。由于其化学性质非常稳定，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业。因此，对…… 查看详细 >
技术简介： 一种搅拌式镉还原棒的制备方法，涉及一种镉还原棒。提供一种以镀铜镉膜为还原介质，可在边搅拌的同时边将水样中的硝酸盐还原为亚硝酸盐的搅拌式镉还原棒的制备方法。将搅拌磁子分别用有机溶剂和…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种从芳樟树叶中提取芳樟叶浸膏和芳樟叶油的方法，本发明包括如下步骤：（1）将芳樟树叶浸泡在乙醇中进行萃取；（2）萃取完毕后，将上述步骤（1）中的物料进行过滤，得滤渣和芳樟…… 查看详细 >
技术简介： 本发明公开了一种从樟树叶中提取黄酮类化合物的方法。本发明的方法包括如下步骤：（1）将樟树叶经干燥后浸入乙醇中，加热回流提取醇溶性物质，停止加热后进行过滤，得樟树叶酊；（2）将所得樟树…… 查看详细 >
技术简介： 本发明涉及用于气相巴豆醛选择性加氢生成巴豆醇的催化剂及其制备方法，该催化剂由载体和活性组分组成，其特征在于：所述载体为Ce-M-O复合氧化物，M为Sm或Y或La，Ce与M的物质的量比为(9~1)∶1；…… 查看详细 >
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