技术详细介绍
技术投资分析：
主要内容：
TDR—80A型单晶炉是软轴提拉型人工晶体生长设备，是在惰性气体环境中以石墨电阻加热器将硅半导体材料熔化，用直拉法生长无位错硅单晶的设备，它可生产太阳能电池用的6″硅单晶和大规模集成电路所需要的高质量硅单晶。
技术水平：
该技术产品采用了磁流体密封技术、浮动式翻版隔离阀（或旋盖式隔离阀）、拱形封头式炉盖结构、浮动式提升结构等先进技术，采用计算机自动控制直径系统 ，综合性能达到了国际先进国内领先水平，具有自主的知识产权。
主要技术参数:
??熔料量： 60kg （18 "热系统）
??晶体直径： 8 "
??TDR—80A 圆筒副室（TDR—80B 开门副室）
??1．加热功率 160kW
??2．最高加热温度 1600℃
??11．冷炉极限真空度 1Pa
??12．主炉室尺寸 Ф800×1000
??14．翻版阀通径 Ф260mm
技术的应用领域前景分析：
市场前景：
目前，国内市场上在运行的TDR—80A型单晶炉已超过60台份，国内的市场占有率在55%以上，在硅单晶太阳能电池领域和大规模集成电路材料领域内发挥着重要作用。
随着国际社会对太阳能光伏工业的日益重视，国际国内对太阳能硅单晶材料的需求量急剧扩大，并向大直径方向发展，目前，市场对8 "硅单晶的需求量大增，已到了供不应求的地步。预计近几年市场需求量在200台左右。
效益分析：
本技术市场广泛，成本低，利润丰厚，效益可观。
厂房条件建议：
无
备注：
服务方式：
出售产品、其它形式的合作面议。