[01171680]功能化的Si基板表面制备图案化BiFeO3薄膜的方法
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技术详细介绍
本发明公开了一种功能化的Si基板表面制备图案化BiFeO3薄膜的方法,该方法包括下述步骤：步骤一：选用Si基片为基底,将切割好的Si基片分别超声波清洗,吹干,紫外光照射仪中照射;步骤二：将经紫外光照射后的Si基片浸入OTS-甲苯溶液中浸泡,使基片表面形成一层OTS单分子膜;清洗,保温;紫外光下照射,得到图案化的BiFeO3薄膜;步骤三：配制BiFeO3前驱体溶液,并将图案化的BiFeO3薄膜OTS-SAMs基体置于配制好的前驱液中,采用提拉法制备薄膜,将样品薄膜干燥,高温下预处理;升温,高温下保温,即淂Si基板表面制备图案化BiFeO3薄膜。该方法结合溶胶-凝胶法和光刻自组装单层膜技术在Si基板表面制备图案清晰的BiFeO3薄膜,该薄膜表面致密均一、边缘轮廓清晰、与基底结合牢固。