[01185343]真空负压纳米压印

随着纳米时代的来临，诸多行业都有大量的机会通过纳米加工开发新产品。然而，相关加工设备动辄上千万的价格让大部分中小企业根本无法承受。市场上极度缺乏既能实现纳米级精度加工而价格又比较合理的设备。 真空负压纳米压印机，主攻信息存储、生物芯片、光学光电子器件这三大应用领域。 相关专利文件 真空负压纳米压印专利说明 一种用于纳米加工技术领域的真空负压纳米压印方法。具体步骤如下：（1）真空负压发生方法，通过真空负压工作室产生真空负压；（2）真空负压传递方法，真空负压工作室的真空达到负压；（3）真空负压柔性传递方法，通过柔性绞链密封连接；（4）压强倍增方法，圆形石英片同心紧密结合；（5）压力施加方法，通过压印基板与工作台之间的均匀的聚四氟乙烯弹性垫，使得模仁和基板两面同时施加平衡、均匀、与表面垂直的压力，完成纳米压印模仁和基板紧密压合工艺过程。本发明能够根据紫外敏感胶和其它纳米压印光刻胶的黏度实现不同压强倍增，较高精密压力平衡控制机械方法极大降低了设备的成本。在纳米结构的制造领域具有广泛的应用。 专利类型： 发明专利 分类号： G03F7/00；H01L21/027