[01230207]微弱信号光电转换技术-研究生长GaAsGaAIAs薄膜技术
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非专利
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技术详细介绍
应用MOCVD技术研究生长GaAsGaAIAs薄膜,为中国批量生产三代徽光材料片做前期的技术准备。国内外技术水平及发展趋势:国外以GaAs/GaAiAs为光电阴极的三代微光管已经成为定型产品,能够大批量生产,在军事上得到了广泛应用。国内的三代微光材料片仍处于小规模研究阶段,正在努力攻关。项目的成熟程度:实验室研究阶段。主要技术指标:a.GaAsGaAlAs薄膜的多层结构;b.铝组分值0.2-0.3;c.掺Zn浓度1-3×10^(18)cm^(-3)应用范围:为光阴极提供材料片。鉴定时间:19980200
应用MOCVD技术研究生长GaAsGaAIAs薄膜,为中国批量生产三代徽光材料片做前期的技术准备。国内外技术水平及发展趋势:国外以GaAs/GaAiAs为光电阴极的三代微光管已经成为定型产品,能够大批量生产,在军事上得到了广泛应用。国内的三代微光材料片仍处于小规模研究阶段,正在努力攻关。项目的成熟程度:实验室研究阶段。主要技术指标:a.GaAsGaAlAs薄膜的多层结构;b.铝组分值0.2-0.3;c.掺Zn浓度1-3×10^(18)cm^(-3)应用范围:为光阴极提供材料片。鉴定时间:19980200