[01392767]正性光敏聚酰亚胺光刻胶用中性显影液
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技术详细介绍
正性光敏聚酰亚胺光刻胶用中性显影液,属于材料技术领域,涉及光刻工艺,尤其是光刻工艺中的显影技术。本发明提供的正性光敏聚酰亚胺光刻胶用中性显影液,其组分包括30.0～60.0wt%的水溶性酰胺类化合物、1.0～10.0wt%的水溶性醇或醇醚类化合物、0.01～3.0wt%的非离子表面活性剂和剩余量的水,其pH值在6.5～7.5之间。采用本发明,正性光敏聚酰亚胺光刻胶的曝光区域与非曝光区域在其中的溶解性反差巨大,曝光部分能够快速完全溶解而未曝光部分几乎不溶解,光刻图形线条敏锐、图像清晰。水溶性醇或醇醚类化合物兼具分散稳定、消泡和助溶作用,使显影液具有良好的分散稳定性和消泡性。本发明特别适合在碱敏感的基片或功能膜上对正性光敏聚酰亚胺光刻胶进行光刻时使用。