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[00156928]一种基于有机膜结构的防复印膜及其制备

交易价格: 面议

所属行业: 基础化学

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN200710011044.4

交易方式: 技术转让

联系人: 中国科学院大连化学物理研究所

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所在地:江苏苏州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  本发明涉及防复印膜材料,具体地说是一种基于有机膜结构的防复印膜及其制备,其以双硫腙金属盐为吸光物质,其材料组成为,吸光材料、增塑剂和PVC的质量比例为1∶20~600∶10~120。在不影响阅读效果的情况下,使被本发明膜覆盖的文件起到了防复印的效果。本发明制备防复印材料的方法简单,该方法不需要复杂的合成步骤,且对阅读效果影响不大,尤其适合于一般文字或图表性文件的防复印要求。

  本发明涉及防复印膜材料,具体地说是一种基于有机膜结构的防复印膜及其制备,其以双硫腙金属盐为吸光物质,其材料组成为,吸光材料、增塑剂和PVC的质量比例为1∶20~600∶10~120。在不影响阅读效果的情况下,使被本发明膜覆盖的文件起到了防复印的效果。本发明制备防复印材料的方法简单,该方法不需要复杂的合成步骤,且对阅读效果影响不大,尤其适合于一般文字或图表性文件的防复印要求。

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