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[01772567]低压弧光放电等离子体特性及奥氏体不锈钢表面改性研究

交易价格: 面议

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类型: 非专利

交易方式: 资料待完善

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技术详细介绍

利用低压弧光放电产生的高密度等离子体分解、离化含氮碳的工作气体介质,提供高活性、高浓度氮、碳粒子,以应用广泛的镍铬奥氏体不锈钢为研究对象,进行低温表面渗扩氮碳处理,提高表面硬度,改善耐磨、抗蚀性能。探讨表面氮、碳过饱和奥氏体形成的物理本质和强化的微观机制。研究改性层形成的热力学和动力学特性,确定过饱和奥氏体热稳定性和分解的临界温度。工艺过程与渗层结构和性能的关系。利用低压弧光放电的特点:低电压(40-50V)、大电流(30-150A),电子能量高(10-20eV),产生高密度等离子体(约1012 cm-3)、提高气体离化率(约10%),技术特点:设备简单,渗氮既可以在较低的真空度下(如0.4Pa),也可在较宽的范围(0.1-10Pa)进行,粒子运动平均自由程长(10-30cm),基体加较低的偏压(300-1000V),在304奥氏体不锈钢基体上420℃渗氮1小时,表面氮浓度高达(45at%),氮化物层达到8-10微米,硬度在1500Hv以上,在3.5%NaCl溶液中渗层具有很好的抗点蚀能力。
利用低压弧光放电产生的高密度等离子体分解、离化含氮碳的工作气体介质,提供高活性、高浓度氮、碳粒子,以应用广泛的镍铬奥氏体不锈钢为研究对象,进行低温表面渗扩氮碳处理,提高表面硬度,改善耐磨、抗蚀性能。探讨表面氮、碳过饱和奥氏体形成的物理本质和强化的微观机制。研究改性层形成的热力学和动力学特性,确定过饱和奥氏体热稳定性和分解的临界温度。工艺过程与渗层结构和性能的关系。利用低压弧光放电的特点:低电压(40-50V)、大电流(30-150A),电子能量高(10-20eV),产生高密度等离子体(约1012 cm-3)、提高气体离化率(约10%),技术特点:设备简单,渗氮既可以在较低的真空度下(如0.4Pa),也可在较宽的范围(0.1-10Pa)进行,粒子运动平均自由程长(10-30cm),基体加较低的偏压(300-1000V),在304奥氏体不锈钢基体上420℃渗氮1小时,表面氮浓度高达(45at%),氮化物层达到8-10微米,硬度在1500Hv以上,在3.5%NaCl溶液中渗层具有很好的抗点蚀能力。

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