[01813483]基于Cl2反应的大面积石墨烯制备方法
联系人：
所在地：
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
登录后向技术服务商咨询
发布技术需求
服务免费，交易还可领红包哦
技术详细介绍
本发明公开了一种基于Cl2反应的大面积石墨烯制备方法,主要解决现有技术中制备的石墨烯面积小、层数不均匀的问题。其实现过程是：（1）在4-12英寸的Si衬底基片上生长一层碳化层作为过渡;（2）在温度为1150℃-1300℃下利用气源C3H8和SiH4生长3C-SiC外延薄膜;（3）将3C-SiC在700-1050℃下与Cl2反应,生成碳膜;（4）将生成的碳膜置于Ar气中,在温度为1000-1100℃下退火10-25min生成石墨烯。用本发明方法生成的石墨烯面积大,表面光滑,孔隙率低,可用于对气体和液体的密封。