[01846018]辐射型多功能薄膜自动沉积系统
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技术详细介绍
辐射型硅基薄膜高速沉积系统为新一代非标CVD设备，故障率低、线列式无交叉污染，克服了只能制备单一结构器件的局限性。该项目自主设计出具有三大低成本高速沉积技术（VHF、HW、HPRF CVD），兼有常规射频、中频 CVD技术的新型多功能自动沉积系统；自主开发出制备高效硅薄膜电池的工艺流程自动控制软件，软件具有高度灵活性，可根据需要修改工艺参数；特殊均匀外加热加热器设计，获得最大平面加热功率面密度。该成果提高了我国在光电子领域设备设计及自动化控制等硬件方面的技术水平。新型电池效率和生长速率的提高，提升了我国在薄膜光伏领域的国际竞争力，并为降低薄膜电池制造成本奠定了技术基础。