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[00019670]电解铬和普通金属铬的脱气提纯工艺技术

交易价格: 面议

所属行业: 金属合金冶炼铸造

类型: 非专利

技术成熟度: 正在研发

交易方式: 完全转让

联系人: 栾先生

进入空间

所在地:辽宁锦州

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

技术投资分析: 电解铬和普通金属铬的脱气提纯工艺技术   本生产工艺是一种提纯由电解法生产的铬和铝热法制得的金属铬为材料的方法,通过本工艺能够降低铬材料中杂质C,N,O,H,S的含量。 目前金属铬可以通过电解法,铝热法或者用其他高温冶金方法制得。用电解法制得的金属铬呈板状,杂质含量为C0.006%,O0.5%,N0.03%,S0.03%,而铝热法制得的金属铬呈块状,而且能够研磨成教小粒度,一般情况下杂质含量为C0.03%,O0.5%,N0.05%,S0.02%,由于在冶金应用中对金属铬中气化杂质含量的要求非常苛刻,因此,现有技术中的电解法和铝热法是不能满足尖端技术领域的需要。所以就需要将金属铬进行提纯精制,以把这些杂质的含量降低到小于C0.01%,O0.03%,N0.002%,S0.004%. 本生产工艺是将电解法或铝热法制得的金属铬加入特殊原料成型后,进行高温真空处理后得到的产品,杂质含量为C0.01%,O0.03%,N0.002%—0.004%,S0.004%,,一般高纯金属铬Cr含量为99.5---99.9%。 技术的应用领域前景分析: 通过本工艺,设备进行脱氧脱气得到高纯度铬粉,是半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及高端光学材料镀膜靶材的必需材料之一,国际国内的需求量很大,产品售价非常可观,随着电子及光学产品的应用需求不断扩大,脱氧脱气高纯铬粉的市场需求在迅速扩大。脱氧脱气高纯铬粉经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶,具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大特点,经磁控溅射为基体镀膜具有耐磨、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点。 目前,国家要求节能减排,淘汰一批落后产能企业。国内企业为了获得更大的投资收益,在技术以及生产规模和产品质量上不断提升。依托国际市场的定价和国内的原材料、人力等成本优势,因此对高纯金属铬的项目来说投资价值极大,它的前景是非常的有发展空间的, 效益分析:   目前,国内未经脱氧脱气的铬粉无法有效应用于高端的半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜的靶材制作,普通金属铬售价比经过脱氧脱气铬粉售价低许多(目前,电解铬Cr99.5%的售价约150-220元/公斤,普通金属铬粉Cr99%的售价约70-100元/公斤),而脱氧脱气高纯铬Cr99.9也只能从国外高价进口一般售价也在(300-500元/公斤)本项目投资后可年产金属铬120吨以上,它的经济效益,我们可以举个例子说明一下, 例如 (一吨普通金属铬粉Cr99%的售价10万经过提纯到Cr99.5%左右它的销售价是15万左右去掉生产成本0.5万元,每吨剩余4.5万元,)年产值就是1800万,年销售120吨,年销售额1800万,年毛利税就是540万左右,所以说本项目可以说是当年投资当年就可以收回的好项目。 备注:   我的例子不一定非常的准确,有意者可以事先进行市场调查一下它们的价差就明白了。   本项目可以说是我们国家目前提倡的绿色环保项目,无污染,节能,零排放,投资少见效快
技术投资分析: 电解铬和普通金属铬的脱气提纯工艺技术   本生产工艺是一种提纯由电解法生产的铬和铝热法制得的金属铬为材料的方法,通过本工艺能够降低铬材料中杂质C,N,O,H,S的含量。 目前金属铬可以通过电解法,铝热法或者用其他高温冶金方法制得。用电解法制得的金属铬呈板状,杂质含量为C0.006%,O0.5%,N0.03%,S0.03%,而铝热法制得的金属铬呈块状,而且能够研磨成教小粒度,一般情况下杂质含量为C0.03%,O0.5%,N0.05%,S0.02%,由于在冶金应用中对金属铬中气化杂质含量的要求非常苛刻,因此,现有技术中的电解法和铝热法是不能满足尖端技术领域的需要。所以就需要将金属铬进行提纯精制,以把这些杂质的含量降低到小于C0.01%,O0.03%,N0.002%,S0.004%. 本生产工艺是将电解法或铝热法制得的金属铬加入特殊原料成型后,进行高温真空处理后得到的产品,杂质含量为C0.01%,O0.03%,N0.002%—0.004%,S0.004%,,一般高纯金属铬Cr含量为99.5---99.9%。 技术的应用领域前景分析: 通过本工艺,设备进行脱氧脱气得到高纯度铬粉,是半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及高端光学材料镀膜靶材的必需材料之一,国际国内的需求量很大,产品售价非常可观,随着电子及光学产品的应用需求不断扩大,脱氧脱气高纯铬粉的市场需求在迅速扩大。脱氧脱气高纯铬粉经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶,具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大特点,经磁控溅射为基体镀膜具有耐磨、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点。 目前,国家要求节能减排,淘汰一批落后产能企业。国内企业为了获得更大的投资收益,在技术以及生产规模和产品质量上不断提升。依托国际市场的定价和国内的原材料、人力等成本优势,因此对高纯金属铬的项目来说投资价值极大,它的前景是非常的有发展空间的, 效益分析:   目前,国内未经脱氧脱气的铬粉无法有效应用于高端的半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜的靶材制作,普通金属铬售价比经过脱氧脱气铬粉售价低许多(目前,电解铬Cr99.5%的售价约150-220元/公斤,普通金属铬粉Cr99%的售价约70-100元/公斤),而脱氧脱气高纯铬Cr99.9也只能从国外高价进口一般售价也在(300-500元/公斤)本项目投资后可年产金属铬120吨以上,它的经济效益,我们可以举个例子说明一下, 例如 (一吨普通金属铬粉Cr99%的售价10万经过提纯到Cr99.5%左右它的销售价是15万左右去掉生产成本0.5万元,每吨剩余4.5万元,)年产值就是1800万,年销售120吨,年销售额1800万,年毛利税就是540万左右,所以说本项目可以说是当年投资当年就可以收回的好项目。 备注:   我的例子不一定非常的准确,有意者可以事先进行市场调查一下它们的价差就明白了。   本项目可以说是我们国家目前提倡的绿色环保项目,无污染,节能,零排放,投资少见效快

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