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[01918802]一 种用于调控 p-Si/n-ZnO 薄 膜 异质 结电学性能和光电输 出的方法

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 非专利

交易方式: 技术转让

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技术详细介绍

一种用于调控 p- Si/n- ZnO 薄膜异质结电学性能和光电输出 的方法,涉及半导体异质结器件领域,包括悬臂梁式的应变机 构,应变机构包括夹片结构和运动结构,p- Si/n- ZnO 薄膜 异质结器件作为悬臂梁,运动结构包括压片器和运动电机,压 片器可随运动电机移动,运动电机可以精确控制运动距离并实 现锁定定位,运动电机控制所述压片器下压,造成悬臂梁的弯 曲,悬臂梁的弯曲形变会等效一部分在 p- Si/n- ZnO 薄膜异 质结器件的厚度方向上,从而造成纵向压应变的产生,随着运 动电机行程的变化,本发明制备高质量的 p- Si/n- ZnO 薄膜 异质结器件,并提供在压电电子学和压电光电子学框架内调控器件的电子学和光电子学性能方案,这在一定程度上拓宽了压 电电子学和压电光电子学的应用范围。


一种用于调控 p- Si/n- ZnO 薄膜异质结电学性能和光电输出 的方法,涉及半导体异质结器件领域,包括悬臂梁式的应变机 构,应变机构包括夹片结构和运动结构,p- Si/n- ZnO 薄膜 异质结器件作为悬臂梁,运动结构包括压片器和运动电机,压 片器可随运动电机移动,运动电机可以精确控制运动距离并实 现锁定定位,运动电机控制所述压片器下压,造成悬臂梁的弯 曲,悬臂梁的弯曲形变会等效一部分在 p- Si/n- ZnO 薄膜异 质结器件的厚度方向上,从而造成纵向压应变的产生,随着运 动电机行程的变化,本发明制备高质量的 p- Si/n- ZnO 薄膜 异质结器件,并提供在压电电子学和压电光电子学框架内调控器件的电子学和光电子学性能方案,这在一定程度上拓宽了压 电电子学和压电光电子学的应用范围。


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