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[01920454]一种印痕显现和提取用半导体量子点荧光试剂的制备方法

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201010247431.X

交易方式: 技术转让

联系人:

所在地:内蒙古自治区呼和浩特市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍

本专利公开了一种刑事侦查领域印痕显现和提取用的新型、表面具有正电特性的液体型半导体量子点荧光试剂,该试剂通过水合联氨对传统表面由巯基乙酸修饰的Ⅱ-Ⅵ族半导体CdTe量子点进行表面改性,制备出了表面具有正电特性的液体型半导体CdTe/NH-(3)~(+)量子点荧光试剂。这种荧光试剂克服了传统碱性条件下巯基乙酸修饰的半导体CdTe/COO~(-)量子点荧光试剂由于表面荷电性与印痕残留物荷电性相同而导致的相互排斥、亲合力不强这一关键技术问题,使其在刑事科学领域更具应用优势。本专利所得的液体型半导体量子点荧光试剂荧光强度高、制备过程简单、与新鲜或陈旧性印痕的粘附性好,适用于刑事侦查中大多数非渗透客体上印痕的显现和提取。
本专利公开了一种刑事侦查领域印痕显现和提取用的新型、表面具有正电特性的液体型半导体量子点荧光试剂,该试剂通过水合联氨对传统表面由巯基乙酸修饰的Ⅱ-Ⅵ族半导体CdTe量子点进行表面改性,制备出了表面具有正电特性的液体型半导体CdTe/NH-(3)~(+)量子点荧光试剂。这种荧光试剂克服了传统碱性条件下巯基乙酸修饰的半导体CdTe/COO~(-)量子点荧光试剂由于表面荷电性与印痕残留物荷电性相同而导致的相互排斥、亲合力不强这一关键技术问题,使其在刑事科学领域更具应用优势。本专利所得的液体型半导体量子点荧光试剂荧光强度高、制备过程简单、与新鲜或陈旧性印痕的粘附性好,适用于刑事侦查中大多数非渗透客体上印痕的显现和提取。

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主办单位:辽阳市科学技术局

技术支持单位:科易网

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