[01922734]一种补偿中口径介质膜平面反射镜镀膜形变的方法

本成果用于高面形精度光学薄膜元件的研制，可应用于激光、光电探测系统。激光测距仪是一种特定类型的光电测距仪，其中采用激光束作为测量的光源。激光测距仪通常具有高精度和长测距范围，并且在许多领域广泛应用，例如地球科学、建筑工程、工业制造等。根据公开数据显示，全球激光测距仪总产量将从2016年的375.38万台增至2022年的700.49万台，复合增长率为10.96%。近几年，随着工业自动化和智能制造的发展，伴随着俄乌战争、巴以冲突的到来，对精密测量和定位的需求不断增加。由上面可以得出，本成果在激光测距仪领域的应用，具有巨大的发展潜力。

其核心竞争力为：

1) 本发明所述的补偿介质膜平面反射镜镀膜形变的方法，根据Stoney公式，结合相同镀膜条件小口径基片应力与变形情况，可以准确预估中口径介质膜平面反射镜镀膜后的面形变化。因此，在产品研制过程中，避免了对中口径基片的反复抛光，提高了成品率，降低了研制成本。

2) 本发明所述的补偿介质膜平面反射镜镀膜形变的方法，无需对现行镀膜工艺参数进行调整，而且仅对基片单面镀膜，便可对介质反射膜层应力造成的基片形变进行补偿，进而实现对中口径介质膜平面反射镜面形精确控制。

3）研制的 Φ200mm 介质膜反射镜面形 PV 值可优于 1/10λ，本专利可应用于激光、光电探测以及航天遥感领域。在产品研制过程中，避免了对中口径基片的反复抛光，提高了成品率，降低了研制成本。

主要性能指标为：

介质膜平面反射镜，工作角度为17°，Φ200×20mm的JGS-1石英玻璃基片，工作波段1064±10nm，R≥99.5%，镜面面形PV值优于1/10λ。