技术详细介绍
本发明涉及一种光子晶体多层膜的制备方法，是针对光子晶体在光学材料中的应用情况，采用导电玻璃做基片，以氧化钛、铜作膜层，通过磁控溅射，在基片上溅射TiO2、Cu膜层，以TiO2、Cu交替形成14层多层膜结构，然后对多层膜进行低温回火，提高多层膜的化学物理性能及力学性能，此制备方法工艺先进严密，技术参数准确翔实，产品质量好，纯度高，光学性能好，是十分理想的光子晶体多层膜的制备方法。
本发明涉及一种光子晶体多层膜的制备方法，是针对光子晶体在光学材料中的应用情况，采用导电玻璃做基片，以氧化钛、铜作膜层，通过磁控溅射，在基片上溅射TiO2、Cu膜层，以TiO2、Cu交替形成14层多层膜结构，然后对多层膜进行低温回火，提高多层膜的化学物理性能及力学性能，此制备方法工艺先进严密，技术参数准确翔实，产品质量好，纯度高，光学性能好，是十分理想的光子晶体多层膜的制备方法。
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