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[00229956]具有高光电响应率的黑磷晶体、其制备方法及应用

交易价格: 面议

所属行业: 无机非金属材料

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610202569.5

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

进入空间

所在地:江苏苏州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍

摘要:本发明公开了一种具有高光电响应率的黑磷晶体、其制备方法及应用。所述具有高光电响应率的黑磷晶体为单晶,空间点群Cmca(no.64),晶胞参数为层间距其制备方法包括将包含红磷、矿化剂和掺杂元素的生长前驱物置于内腔为真空环境的密封反应容器内,并对所述反应容器依次进行加热、保温、降温,从而生长形成所述黑磷晶体。本发明提供的黑磷晶体的载流子类型及载流子浓度可调,在无需后续修饰的情况下,即表现出极高的光电响应率,同时其制备方法简单,成本低、污染小、产率高、产物结晶性好、掺杂均匀,在光电子器件领域有广泛应用前景。
摘要:本发明公开了一种具有高光电响应率的黑磷晶体、其制备方法及应用。所述具有高光电响应率的黑磷晶体为单晶,空间点群Cmca(no.64),晶胞参数为层间距其制备方法包括将包含红磷、矿化剂和掺杂元素的生长前驱物置于内腔为真空环境的密封反应容器内,并对所述反应容器依次进行加热、保温、降温,从而生长形成所述黑磷晶体。本发明提供的黑磷晶体的载流子类型及载流子浓度可调,在无需后续修饰的情况下,即表现出极高的光电响应率,同时其制备方法简单,成本低、污染小、产率高、产物结晶性好、掺杂均匀,在光电子器件领域有广泛应用前景。

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