[00234699]一种晶态氧化钒薄膜及其制备方法和在可见及近红外光学器件中的应用
交易价格：
面议
所属行业：
其他
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201610857558.0
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
四川钒钛产业技术研究院
进入空间
所在地：四川攀枝花市
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-
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技术详细介绍
本发明公开了一种晶态氧化钒薄膜及其制备方法和在可见及近红外光学器件中的应用，一种晶态氧化钒薄膜，利用磁控溅射方法制备出的氧化钒薄膜为原料，在箱式炉中对氧化钒薄膜进行热处理，氧化钒薄膜经退火后自然冷却至室温20～25℃即可得到结构致密均匀的所述的晶态氧化钒薄膜，热处理时用到的箱式炉处于一个标准大气压和室温20～25℃条件的环境中；进行热处理时，自室温20～25℃下以3℃～5℃/分钟的升温速度升温至退火温度，退火温度为300℃～600℃，退火时间为20分钟～80分钟。本发明解决了非晶态氧化钒薄膜不透明的问题，经测试，透射率平均值可达50％以上(优选60—85％)，可应用于可见及近红外光学器件。
本发明公开了一种晶态氧化钒薄膜及其制备方法和在可见及近红外光学器件中的应用，一种晶态氧化钒薄膜，利用磁控溅射方法制备出的氧化钒薄膜为原料，在箱式炉中对氧化钒薄膜进行热处理，氧化钒薄膜经退火后自然冷却至室温20～25℃即可得到结构致密均匀的所述的晶态氧化钒薄膜，热处理时用到的箱式炉处于一个标准大气压和室温20～25℃条件的环境中；进行热处理时，自室温20～25℃下以3℃～5℃/分钟的升温速度升温至退火温度，退火温度为300℃～600℃，退火时间为20分钟～80分钟。本发明解决了非晶态氧化钒薄膜不透明的问题，经测试，透射率平均值可达50％以上(优选60—85％)，可应用于可见及近红外光学器件。
