技术详细介绍
本发明涉及一种光盘模版形成方法，包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光刻胶层；于该第一光刻胶层上涂布一镍钒合金金属阻挡层，该镍钒合金金属阻挡层的厚度为1纳米到100纳米；于该镍钒合金金属阻挡层上涂布一第二光刻胶层；以一光束对该第二光刻胶层进行曝光；以另一光束穿透该镍钒合金金属阻挡层对该第一光刻胶层进行曝光；进行显影；及朝该第二光刻胶层的方向溅镀一镍钒合金金属层，另外，本发明亦提供另一种光盘模版形成方法。
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