技术详细介绍
摘要：本发明是关于一种光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法
该光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法为在结构支撑玻璃的表面涂覆光刻胶涂层；根据泰森多边形法计算无规则网格图形，将无规则网格的图形输入激光器中，在光刻胶涂层上进行激光直写刻蚀，除去结构支撑玻璃上多余的光刻胶，得到光刻胶掩膜；在光刻胶掩膜上镀制复合金属膜层；复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在光刻胶掩膜上；过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁；去除玻璃上的光刻胶。本光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法发明的电磁屏蔽玻璃无莫尔干涉条纹现象，结构简单，耐候性强，同时具有高光学透过率和高屏蔽效能，其透光率大于80％，电磁屏蔽效能为大于等于20dB。
该光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法为在结构支撑玻璃的表面涂覆光刻胶涂层；根据泰森多边形法计算无规则网格图形，将无规则网格的图形输入激光器中，在光刻胶涂层上进行激光直写刻蚀，除去结构支撑玻璃上多余的光刻胶，得到光刻胶掩膜；在光刻胶掩膜上镀制复合金属膜层；复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在光刻胶掩膜上；过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁；去除玻璃上的光刻胶。本光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法发明的电磁屏蔽玻璃无莫尔干涉条纹现象，结构简单，耐候性强，同时具有高光学透过率和高屏蔽效能，其透光率大于80％，电磁屏蔽效能为大于等于20dB。