技术详细介绍
摘要：本发明提供了一种镀膜方法及掩模夹具，涉及镀膜领域，可对目标物体的外轮廓面和具有结构件阻挡的内表面进行一次镀膜
本镀膜方法及掩模夹具发明镀膜方法采用磁控溅射对目标物体镀膜，目标物体包括第一表面和第二表面及连通第一表面和第二表面的镂空部，位于目标物体两表面的镀膜部位为表面镀膜区，位于镂空部侧壁面的镀膜部位为侧面镀膜区，所述镀膜方法包括以下步骤将所述目标物体装入掩模夹具，掩模夹具具有与目标物体镀膜部位对应的镂空区，与侧面镀膜区对应的掩模夹具的镂空区的尺寸大于侧面镀膜区的设计尺寸；镀膜方法及掩模夹具将固定有目标物体的掩模夹具固定于样品架上，镀膜过程中样品架沿其旋转轴翻转，样品架的旋转轴与侧面镀膜区所在平面或所有切面的夹角均小于90°。
本镀膜方法及掩模夹具发明镀膜方法采用磁控溅射对目标物体镀膜，目标物体包括第一表面和第二表面及连通第一表面和第二表面的镂空部，位于目标物体两表面的镀膜部位为表面镀膜区，位于镂空部侧壁面的镀膜部位为侧面镀膜区，所述镀膜方法包括以下步骤将所述目标物体装入掩模夹具，掩模夹具具有与目标物体镀膜部位对应的镂空区，与侧面镀膜区对应的掩模夹具的镂空区的尺寸大于侧面镀膜区的设计尺寸；镀膜方法及掩模夹具将固定有目标物体的掩模夹具固定于样品架上，镀膜过程中样品架沿其旋转轴翻转，样品架的旋转轴与侧面镀膜区所在平面或所有切面的夹角均小于90°。