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[00244190]一种X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法

交易价格: 面议

所属行业: 核能及氢能

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610030914.1

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 浙江工业大学

进入空间

所在地:浙江杭州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

一种X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法,该优化方法以具有不同单元数量和面型结构的X射线组合折射透镜系列、入射X射线光子波长和期望焦距为输入设计参量,以X射线组合折射透镜的选择和排列结果为输出设计参量,以聚焦光学系统焦距作为第一优化条件,根据聚焦光学系统容差得到初步优化方案。本发明提供一种优化参数、提高性能、扩大应用范围的X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法。
一种X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法,该优化方法以具有不同单元数量和面型结构的X射线组合折射透镜系列、入射X射线光子波长和期望焦距为输入设计参量,以X射线组合折射透镜的选择和排列结果为输出设计参量,以聚焦光学系统焦距作为第一优化条件,根据聚焦光学系统容差得到初步优化方案。本发明提供一种优化参数、提高性能、扩大应用范围的X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法。

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