[00249439]新型光臂放大式二维线性测头
交易价格：
面议
所属行业：
机械检测
类型：
实用新型专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201520771429.0
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
科小易
进入空间
所在地：福建厦门市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本实用新型公开了一种新型光臂放大式二维线性测头，包括用于发射两条激光束的两个激光源；用于反射每束激光束的测头基座，测头基座设有至少两个反射面以及测杆和测球；用于接收两条反射激光束的两个光电探测器；用于使测头基座，或光电探测器与测头基座一起，做直线运动的平移部件，以改变测头基座反射面上的两条激光束反射点位置的平移部件；用于将测头基座回复至初始位置的回复部件；用于计算获得测球位移变化值的处理系统。该二维线性测头通过两个光电探测器能够得到在两个不同直线方向的位移量，以补偿被测工件定位时的测量偏差，获得更为准确的测量坐标，提高了测量精度，简化了结构，降低了生产成本，易于批量加工制造。
本实用新型公开了一种新型光臂放大式二维线性测头，包括用于发射两条激光束的两个激光源；用于反射每束激光束的测头基座，测头基座设有至少两个反射面以及测杆和测球；用于接收两条反射激光束的两个光电探测器；用于使测头基座，或光电探测器与测头基座一起，做直线运动的平移部件，以改变测头基座反射面上的两条激光束反射点位置的平移部件；用于将测头基座回复至初始位置的回复部件；用于计算获得测球位移变化值的处理系统。该二维线性测头通过两个光电探测器能够得到在两个不同直线方向的位移量，以补偿被测工件定位时的测量偏差，获得更为准确的测量坐标，提高了测量精度，简化了结构，降低了生产成本，易于批量加工制造。
