[00257706]光场成像设备轴向分辨率测定装置与方法
交易价格：
面议
所属行业：
分析仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201610416223.5
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
西安理工大学
进入空间
所在地：陕西西安市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明提供了一种光场成像设备轴向分辨率测定装置与方法，在光场成像设备的光轴方向上，以相互遮挡率低于50％的方式放置两个以上的标记靶板，确保标记靶板在光场成像设备视野范围内，并采用光场成像设备获取标记靶板经过凸透镜组件放大后的虚像。本发明适合具有较大轴向成像范围的光场成像装置使用，对光场成像设备轴向分辨率的理论可测定范围从零至无穷远，具有体积小结构紧凑的优点，有利于对不同光场成像系统的性能进行分析和比对，且便于在其他特定的光场成像应用系统中进行集成。
摘要：本发明提供了一种光场成像设备轴向分辨率测定装置与方法，在光场成像设备的光轴方向上，以相互遮挡率低于50％的方式放置两个以上的标记靶板，确保标记靶板在光场成像设备视野范围内，并采用光场成像设备获取标记靶板经过凸透镜组件放大后的虚像。本发明适合具有较大轴向成像范围的光场成像装置使用，对光场成像设备轴向分辨率的理论可测定范围从零至无穷远，具有体积小结构紧凑的优点，有利于对不同光场成像系统的性能进行分析和比对，且便于在其他特定的光场成像应用系统中进行集成。
