X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
帮助中心 | 关于我们
欢迎来到辽阳市科技创新服务平台,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00257824]面曝光3D打印约束基板防粘附增透功能膜及其制备方法

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610459297.7

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 西安理工大学

进入空间

所在地:陕西西安市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
|
收藏
|

技术详细介绍

摘要:本发明公开了一种面曝光3D打印约束基板防粘附增透功能膜,包括刻蚀在石英基板表面的纳米结构层,及沉积在纳米结构层表面的低表面能修饰层。本发明还公开了其制备方法:通过浸渍提拉法在石英基板表面单层密排二氧化硅小球;以单层密排二氧化硅小球为掩蔽膜,通过干法刻蚀制备到石英基板表面,得到纳米结构层;在对其进行低表面能处理得到。本发明防粘附增透功能膜,通过表面刻蚀纳米结构层,并在纳米结构层表面沉积低表面能修饰层,使其表面具有疏水/疏油特性,树脂不能填充纳米结构间隙,因而固化树脂与槽底表面只有部分接触,由于固化层与基底表面的接触面积显著减小,因而固化层与基底间的粘附力显著减小。
摘要:本发明公开了一种面曝光3D打印约束基板防粘附增透功能膜,包括刻蚀在石英基板表面的纳米结构层,及沉积在纳米结构层表面的低表面能修饰层。本发明还公开了其制备方法:通过浸渍提拉法在石英基板表面单层密排二氧化硅小球;以单层密排二氧化硅小球为掩蔽膜,通过干法刻蚀制备到石英基板表面,得到纳米结构层;在对其进行低表面能处理得到。本发明防粘附增透功能膜,通过表面刻蚀纳米结构层,并在纳米结构层表面沉积低表面能修饰层,使其表面具有疏水/疏油特性,树脂不能填充纳米结构间隙,因而固化树脂与槽底表面只有部分接触,由于固化层与基底表面的接触面积显著减小,因而固化层与基底间的粘附力显著减小。

推荐服务:

主办单位:辽阳市科学技术局

技术支持单位:科易网

辽ICP备16017206号-1

辽公网安备 21100302203138号

关于我们

平台简介

联系我们

客服咨询

400-649-1633

工作日:08:30-21:00

节假日:08:30-12:00

13:30-17:30