X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
帮助中心 | 关于我们
欢迎来到辽阳市科技创新服务平台,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00278779]高透过率的多孔WO3电致变色薄膜的制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 专用化学

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201710456703.9

交易方式: 技术转让 技术转让 技术入股

联系人: 辽宁师范大学

进入空间

所在地:辽宁大连市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
|
收藏
|

技术详细介绍

摘要:本发明公开一种高透过率的多孔WO3电致变色薄膜的制备方法,按照以下步骤进行将清洗好的衬底基片放入磁控溅射系统的真空室样品台上,采用纯度为99.99%的钨靶作为溅射靶材,将本底真空抽至10‑3Pa以下,基片温度设定在室温至300℃;向真空室通入惰性气体,调整工作气压,开启钨靶并设定其溅射功率,开始在基片上沉积金属W薄膜,通过控制溅射时间来控制薄膜厚度;溅射结束后在基片上得到黑褐色的金属W薄膜;在含有F‑的电解质溶液中,对所制备的金属W薄膜进行阳极氧化处理,阳极是镀有W薄膜的基片,阴极为不锈钢片,在两极之间施加阳极氧化电压;对阳极氧化后的样品进行空气退火处理,处理时间2小时,炉冷至室温,即得到多孔WO3薄膜。
摘要:本发明公开一种高透过率的多孔WO3电致变色薄膜的制备方法,按照以下步骤进行将清洗好的衬底基片放入磁控溅射系统的真空室样品台上,采用纯度为99.99%的钨靶作为溅射靶材,将本底真空抽至10‑3Pa以下,基片温度设定在室温至300℃;向真空室通入惰性气体,调整工作气压,开启钨靶并设定其溅射功率,开始在基片上沉积金属W薄膜,通过控制溅射时间来控制薄膜厚度;溅射结束后在基片上得到黑褐色的金属W薄膜;在含有F‑的电解质溶液中,对所制备的金属W薄膜进行阳极氧化处理,阳极是镀有W薄膜的基片,阴极为不锈钢片,在两极之间施加阳极氧化电压;对阳极氧化后的样品进行空气退火处理,处理时间2小时,炉冷至室温,即得到多孔WO3薄膜。

推荐服务:

主办单位:辽阳市科学技术局

技术支持单位:科易网

辽ICP备16017206号-1

关于我们

平台简介

联系我们

客服咨询

400-649-1633

工作日:08:30-21:00

节假日:08:30-12:00

13:30-17:30