技术详细介绍
本发明公开了一种TaN-Ag硬质薄膜及其制备方法，TaN-Ag硬质薄膜是以高纯Ta靶和Ag靶为靶材，采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上得到的，薄膜分子式为TaN-Ag，厚度在1-3μm；沉积时，真空度优于3.0×10-3Pa，以氩气起弧，氮气为反应气体，溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:(2-5)；Ta靶功率为150-250W，Ag靶功率为0-40W且大于0。所得硬质涂层综合具备了高硬度，良好的耐磨性等优良特点。
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