X为了获得更好的用户体验,请使用火狐、谷歌、360浏览器极速模式或IE8及以上版本的浏览器
帮助中心 | 关于我们
欢迎来到辽阳市科技创新服务平台,请 登录 | 注册
尊敬的 , 欢迎光临!  [会员中心]  [退出登录]
当前位置: 首页 >  科技成果  > 详细页

[00316436]用于芯片制造的白光显微干涉仪及系统

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 非专利

技术成熟度: 通过中试

交易方式: 资料待完善

联系人:潘明财

所在地:江苏南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
|
收藏
|

技术详细介绍

白光显微干涉仪及系统,是用于芯片开发的主要检测仪器。广泛应用于集成 电路芯片制造及封装工艺,检测光刻投影物镜镜面表面粗糙度、硅片表面粗糙度 与集成电路芯片表面微观结构形貌。垂直分辨率达0. 06 nm,技术指标国际领先, 仪器成熟度已达7级。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表 面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率。

受工业与信息化部国防科工局技术基础项目和科技部国家重大科学仪器设备开 发专项“相位调制干涉仪关键部件与仪器开发应用”(2013YQ150829)的资助, 南京理工大学研制开发了白光显微干涉仪及系统,取得了专利成果,样机在中科 院微电子所,中国工程物理研究院核聚变研究中心等军民领域得到了推广应用。


技术指标

1、垂直分辨率:0. 06nm RMS

2、重复性:0.007nm

3、光学分辨率:0.49um

4、CCD 分辨率:1392X 1024

5、最大视场:1英寸(可选)

6、最小工作距离:15mm(5X物镜)

7、反射率:<1%至100%

白光显微干涉仪及系统,是用于芯片开发的主要检测仪器。广泛应用于集成 电路芯片制造及封装工艺,检测光刻投影物镜镜面表面粗糙度、硅片表面粗糙度 与集成电路芯片表面微观结构形貌。垂直分辨率达0. 06 nm,技术指标国际领先, 仪器成熟度已达7级。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表 面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率。

受工业与信息化部国防科工局技术基础项目和科技部国家重大科学仪器设备开 发专项“相位调制干涉仪关键部件与仪器开发应用”(2013YQ150829)的资助, 南京理工大学研制开发了白光显微干涉仪及系统,取得了专利成果,样机在中科 院微电子所,中国工程物理研究院核聚变研究中心等军民领域得到了推广应用。


技术指标

1、垂直分辨率:0. 06nm RMS

2、重复性:0.007nm

3、光学分辨率:0.49um

4、CCD 分辨率:1392X 1024

5、最大视场:1英寸(可选)

6、最小工作距离:15mm(5X物镜)

7、反射率:<1%至100%

推荐服务:

主办单位:辽阳市科学技术局

技术支持单位:科易网

辽ICP备16017206号-1

辽公网安备 21100302203138号

关于我们

平台简介

联系我们

客服咨询

400-649-1633

工作日:08:30-21:00

节假日:08:30-12:00

13:30-17:30