联系人:牟春竹
所在地:山东济南市
本大学拥有该晶体及生长工艺的完整知识产权,可以生长高质量、大尺寸单晶,晶体位错密度仅为104cm-2;通过不同元素掺杂氧化镓晶体生长工艺,实现了晶体电阻率在10-3-1011Ωcm的连续可调;研制的单晶衬底表面粗糙度<0。5 nm,完全符合器件制作要求;高质量单晶衬底与GaN失配小、透明导电,可以用于制备垂直结构的高亮度LED;该成果处于国内领先水平,具有单晶生长速度快、成本低等特点,对于推进我国宽禁带半导体技术发展和进步具有重大意义。

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