[00333330]一种适用于光学陶瓷的冷等静压方法和光学陶瓷的制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
建筑材料
类型：
发明专利
技术成熟度：
通过小试
专利所属地：中国
专利号：CN201710073673.3
交易方式：
资料待完善
联系人：
厦门立德软件公司
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资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍
本发明提供了一种适用于光学陶瓷的冷等静压方法和光学陶瓷的制备方法，冷等静压方法包括以下步骤a)将干压成型后的若干光学陶瓷圆柱体状素胚堆叠成一个圆柱体，并且每两个圆柱体状素胚之间用圆形称量纸隔开；b)将步骤a)堆叠成的圆柱体用保鲜膜包裹至少2层；c)将步骤b)包裹好的圆柱体放入真空袋中抽真空，然后冷等静压，经卸压得到冷等静压后的光学陶瓷素胚。采用本发明新的冷等静压的方法，可以制备出边缘受损较少的陶瓷胚体，进而制备出具有高透过率的陶瓷片。实验证明，本发明实施例采用新型的冷等静压技术烧结出的NdYAG激光陶瓷边缘缺陷大大的减少，抛光后透过率可达81％。
本发明提供了一种适用于光学陶瓷的冷等静压方法和光学陶瓷的制备方法，冷等静压方法包括以下步骤a)将干压成型后的若干光学陶瓷圆柱体状素胚堆叠成一个圆柱体，并且每两个圆柱体状素胚之间用圆形称量纸隔开；b)将步骤a)堆叠成的圆柱体用保鲜膜包裹至少2层；c)将步骤b)包裹好的圆柱体放入真空袋中抽真空，然后冷等静压，经卸压得到冷等静压后的光学陶瓷素胚。采用本发明新的冷等静压的方法，可以制备出边缘受损较少的陶瓷胚体，进而制备出具有高透过率的陶瓷片。实验证明，本发明实施例采用新型的冷等静压技术烧结出的NdYAG激光陶瓷边缘缺陷大大的减少，抛光后透过率可达81％。
