[00333678]一种用于控制颗粒间距的微流控芯片装置及其微流道结构
交易价格：
面议
所属行业：
实验仪器
类型：
发明专利
技术成熟度：
通过小试
专利所属地：中国
专利号：CN201620589843.4
交易方式：
资料待完善
联系人：
厦门立德软件公司
进入空间
所在地：
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本实用新型公开了一种用于控制颗粒间距的微流控芯片装置及其微流道结构，其中，微流道结构包括不对称聚焦弯道、直聚焦流道及鞘液流道，不对称聚焦弯道的第一端与样品液入口连通；直聚焦流道的两端分别与不对称聚焦弯道的第二端及混合液出口连通；鞘液流道包括关于直聚焦流道对称的左流道和右流道，左右流道的第一端均与鞘液入口连通，左流道及右流道的第二端分别从两侧与直聚焦流道连通；上述微流道结构，在使用时可以采用鞘液流聚焦和迪恩流聚焦相互配合的方式，不同粒径的颗粒先在不对称聚焦弯道中第一次聚焦各自形成一条直线，然后在直聚焦流道中受两对称鞘液流的二次聚焦作用，全部聚焦于直聚焦流道的中心线上，从而达到改善聚焦效果的目的。
本实用新型公开了一种用于控制颗粒间距的微流控芯片装置及其微流道结构，其中，微流道结构包括不对称聚焦弯道、直聚焦流道及鞘液流道，不对称聚焦弯道的第一端与样品液入口连通；直聚焦流道的两端分别与不对称聚焦弯道的第二端及混合液出口连通；鞘液流道包括关于直聚焦流道对称的左流道和右流道，左右流道的第一端均与鞘液入口连通，左流道及右流道的第二端分别从两侧与直聚焦流道连通；上述微流道结构，在使用时可以采用鞘液流聚焦和迪恩流聚焦相互配合的方式，不同粒径的颗粒先在不对称聚焦弯道中第一次聚焦各自形成一条直线，然后在直聚焦流道中受两对称鞘液流的二次聚焦作用，全部聚焦于直聚焦流道的中心线上，从而达到改善聚焦效果的目的。
