[00335772]一种用于测定二氧化硅表面羟基数目的装置
交易价格：
面议
所属行业：
检测仪器
类型：
实用新型专利
技术成熟度：
通过小试
专利所属地：中国
专利号：CN201520591782.0
交易方式：
资料待完善
联系人：
福建师范大学
进入空间
所在地：福建福州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本实用新型公开一种用于测定二氧化硅表面羟基数目的装置，包括进样注射器、恒压滴液漏斗、转接头、圆底烧瓶、磁力加入搅拌器、磁力搅拌子、胶塞、玻璃导管、氮气瓶、进气阀、排气阀、干燥器、五氧化二磷、测试开关和由橡胶管连接的两根碱式滴定管和带标尺的固定架组成。本实用新型测定二氧化硅表面羟基数目的装置由于设计有五氧化二磷干燥，并且整个装置在测定过程中处在氮气的气氛中，其主要优点是：在测定过程中除去一些易容易与反应试剂发生作用的物质对测定的影响，提高测定的准确度。本装置可用于简单、快速、准确的测定二氧化硅表面羟基的含量。主要用于有气体产生的滴定法(如格氏试剂法、氢化铝锂法、锂试剂法和有机硅烷法等)测定二氧化硅表面羟基含量用。
摘要：本实用新型公开一种用于测定二氧化硅表面羟基数目的装置，包括进样注射器、恒压滴液漏斗、转接头、圆底烧瓶、磁力加入搅拌器、磁力搅拌子、胶塞、玻璃导管、氮气瓶、进气阀、排气阀、干燥器、五氧化二磷、测试开关和由橡胶管连接的两根碱式滴定管和带标尺的固定架组成。本实用新型测定二氧化硅表面羟基数目的装置由于设计有五氧化二磷干燥，并且整个装置在测定过程中处在氮气的气氛中，其主要优点是：在测定过程中除去一些易容易与反应试剂发生作用的物质对测定的影响，提高测定的准确度。本装置可用于简单、快速、准确的测定二氧化硅表面羟基的含量。主要用于有气体产生的滴定法(如格氏试剂法、氢化铝锂法、锂试剂法和有机硅烷法等)测定二氧化硅表面羟基含量用。
