[00339680]超声雾化喷嘴及其喷涂装备
联系人：向东
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技术详细介绍
成果简介：
本技术主要用于光刻胶喷涂等高价值高分子材料薄膜生成工艺，旨在解决高分子材料薄膜均匀性问题。主要成果形式：
1. 超声雾化喷嘴；
2. 超声雾化喷涂设备。
可根据不同生产现场需求，进行针对性设计和制作。
技术优势：
喷胶喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性，其技术主要采用超声雾化喷嘴，该技术被美国 Seno-tek 等公司掌握。要突破此技术主要需攻克 3 方面的难点：
1. 突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。
2. 突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。
3. 弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系，指导光刻胶薄膜制备工艺。
性能指标：
1. 喷嘴的谐振频率可达 120KHz。
2. 光刻胶液滴长度平均粒径 18μm，膜厚均匀性±3%。
市场分析：
喷嘴及其设备主要用于均匀性要求高的高分子薄膜工艺，如芯片的涂胶工艺、太阳能薄膜、MEMS 微结构等。
成果亮点：
1. 具有自主知识产权。
2. 成果来源：国家 02 专项、企业需求。
3. 技术先进性：行业先进，本技术已应用于生产企业。