[00662730]工艺模型参数优化提取和工艺模拟程序
联系人：
所在地：
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
登录后向技术服务商咨询
发布技术需求
服务免费，交易还可领红包哦
技术详细介绍
工艺参数优化提取和工艺模拟软件的特点是建立起一套比较完整的工艺解析模型，它能模拟ＭＯＳ和双极型晶体管的典型工艺，配以一个工艺模型参数优化提取程序，能够实现对特定工艺线的准确模拟，计算出各种工序后的半导体内部的杂质分布、结深、方块电阻、表面浓度等。工艺解析模型包括以下七种：①预淀积工艺模型；②预淀积后热氧化工艺模型；③离子注入模型；④离子注入后Ｎ2 下扩散模型；⑤离子注入后Ｏ2 下扩散模型；⑥氧化工艺模型；⑦外延工艺模型。可处理四种杂质：Ｂ、Ｐ、ＡＳ、Ｓｂ。该程序是一个具有与ＳＯＰＲＥＭ－Ⅱ相同功能的工艺模拟程序，但因采用了解析模型，所以运算时间比ＳＯＰＲＥＭ－Ⅱ快的多。