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[00707782]面向长波长LED应用的石墨烯/SiC衬底上应变弛豫GaN薄膜的外延生长

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 非专利

技术成熟度: 可规模生产

交易方式: 资料待完善

联系人: 8678835

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所在地:福建厦门市

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对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍

成功在石墨烯/SiC衬底上实现了应变弛豫GaN薄膜的外延生长,并发现了其在长波长LED中的应用潜力。研究发现,石墨烯的插入极大地降低了GaN薄膜中的双轴应力,有效提高了InGaN阱层中In原子并入,使S子阱发光波长显著红移。该成果有助于推动高性能、长波长氮化物发光器件发展。相关结果以“Demonstration of epitaxial growth of strain-relaxed GaN films on graphene/SiC substrates for long wavelength light-emitting diodes”为题发表在国际顶尖学术期刊《Light:Science&Applications》。

企业微信截图_16600105412238.png

成功在石墨烯/SiC衬底上实现了应变弛豫GaN薄膜的外延生长,并发现了其在长波长LED中的应用潜力。研究发现,石墨烯的插入极大地降低了GaN薄膜中的双轴应力,有效提高了InGaN阱层中In原子并入,使S子阱发光波长显著红移。该成果有助于推动高性能、长波长氮化物发光器件发展。相关结果以“Demonstration of epitaxial growth of strain-relaxed GaN films on graphene/SiC substrates for long wavelength light-emitting diodes”为题发表在国际顶尖学术期刊《Light:Science&Applications》。

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