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[00712580]新型半导体光电子材料与器件-硅基锗硅超晶格、量子阱、异质结构材料与器件

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 非专利

交易方式: 资料待完善

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技术详细介绍

Si基SiGe超晶格量子阱的问世,开创了Si材料人工设计新纪元,开拓了Si基异质结构材料在光电子和高速微电子技术上的重要应用,成为近年国际研究热点。南京大学物理系张荣教授在这方面的主要学术贡献有:创新发展了快速辐射加热超低压化学气相淀积GeSi原子级外延方法,研制出计算机实时控制的RTP/VLP-CVD材料生长系统;提出利用氢抑制GeSi外延生长Ge分凝的方法,解决了因Ge分凝导致SiGe/Si生长界面模糊的重大技术难点,使Gesi外延提高到新的水平;首次用超低压CVD生长出GeSi/Si应变层超品格材料,制备出高质量GeSi/Si量予阱材料,观察到对应予带间跃迁的红外光谱;首次发展了GeSi/Si超品格多入射角椭偏光学表征方法;首次观察到SiGe/Si应变超晶格SiGe合金层有序化新结构;在国内首次研制出SiGe-HBT器件;8-12m SiGe/Si内光电发射红外探测器。该项成果发表学术论文40余篇,获得/申请国家发明专利5项,通过省部级科技成果鉴定3项,获国家技术发明三等奖1项,国家教委科技进步奖二等奖1项,江苏省科技进步奖二等奖1项,论文被广泛引用。
Si基SiGe超晶格量子阱的问世,开创了Si材料人工设计新纪元,开拓了Si基异质结构材料在光电子和高速微电子技术上的重要应用,成为近年国际研究热点。南京大学物理系张荣教授在这方面的主要学术贡献有:创新发展了快速辐射加热超低压化学气相淀积GeSi原子级外延方法,研制出计算机实时控制的RTP/VLP-CVD材料生长系统;提出利用氢抑制GeSi外延生长Ge分凝的方法,解决了因Ge分凝导致SiGe/Si生长界面模糊的重大技术难点,使Gesi外延提高到新的水平;首次用超低压CVD生长出GeSi/Si应变层超品格材料,制备出高质量GeSi/Si量予阱材料,观察到对应予带间跃迁的红外光谱;首次发展了GeSi/Si超品格多入射角椭偏光学表征方法;首次观察到SiGe/Si应变超晶格SiGe合金层有序化新结构;在国内首次研制出SiGe-HBT器件;8-12m SiGe/Si内光电发射红外探测器。该项成果发表学术论文40余篇,获得/申请国家发明专利5项,通过省部级科技成果鉴定3项,获国家技术发明三等奖1项,国家教委科技进步奖二等奖1项,江苏省科技进步奖二等奖1项,论文被广泛引用。

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