[00756275]改进地质样品(岩矿光薄片)磨抛工艺及新型抛光材料的研制
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技术详细介绍
我国地矿行业磨片实验室设备及工艺均较落后，尤其在抛光工艺中使用的重铬酸铵材料，是一种有害工人健康，引起环境污染的有毒物质。该成果研制成1010及BSW-2010抛光液，具有清洁无毒、性能稳定及生产成本合理等特点，不使用重铬酸铵及氧化铬抛光材料，而且有效地提高了光片质量(包括平整度高，划道、擦察的明显减少等方面)。该成果还提出将化学抛光与机械抛光结合的新工艺，在国内外地质行业中均属首创，该工艺可简化抛光工艺，产品达国际同类实验室水平。