[00756642]宽幅微米结构激光图像光刻设备与应用
联系人：
所在地：
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
登录后向技术服务商咨询
发布技术需求
服务免费，交易还可领红包哦
技术详细介绍
采用干涉光学头和DPSSL紫外输出激光351nm光束，产生0.5-10微米结构的干涉光点，在材料直接光刻，形成具有微米结构调制的激光衍射图像。在610mm×800mm的幅面上，直写精密激光光变图形。该装备是国际上最先进的微米、亚微米结构图像的光刻系统。主要性能：支持：矢量图形(＜96mm/s)、点阵图形直写，定位精度IV型：5微米；V型：1微米。衍射图形，图像，衍射光栅，精密激光模具、精密激光加工。应用领域：1、激光图像原版；2、光柱原版；3、激光拉丝原版；4、素面彩虹版；5、精密电路输出；6、精密掩模输出。性能指标：输出定位精度：1微米；光点尺寸：1-20微米可调；光电结构精细度：0.5-10微米；图形幅面：610mm×800mm；激光波长：351nm；运行速度：10-100mm/s。市场前景及预测：国内外市场＞50台/年，$35万元/台。投资规模及经济效益分析：4000万元销售，2000利润。