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技术详细介绍
该项目发展了一种原位等离子体氧化的高温超导薄膜制备技术，制得的薄膜性能达到国际先进水平。如钛酸锶衬底上的钇钡铜氧膜，零电阻温度为９１Ｋ，液氮温度临界电流密度为３×１０＜＇６＞Ａ／ｃｍ＜２＞。该项目研究了靶材、靶距、衬底位置与膜成分的关系以及衬底温度、溅射气氛等对膜性能的影响。通过研究较早地（１９８９年４月）探索出正轴溅射情况下获得高质量钇系薄膜的工艺条件，并具有淀积温度较低，膜面平整度好的特点。高温超导膜的制成，为液氮下超导电子器件的应用打下了基础。例如，薄膜成形后可制成滤波器、谐振器、延迟线等无源器件，性能优良，在信息传输与处理方面有重大意义；再如制成多层膜和有源器件后，在物理研究，弱磁测量及高频应用方面有着诱人的应用前景。