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[00086509]金属陶瓷机械密封环

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 实用新型专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:200920283274.0

交易方式: 技术转让

联系人: 柯全

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所在地:上海上海市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

  技术简介:   本实用新型公开了一种用于旋转机械中的机械密封件,用铝、镁、钛金属及其合金与铝基复合材料作为机械密封环的基底材料,并通过微弧氧化而生成的致密均匀的陶瓷层作为密封面。本实用新型可以低成本地大批量生产;微弧氧化处理操作简便稳定,获得的微弧氧化陶瓷层属于基体原位生长陶瓷层,结合牢固,陶瓷层致密均匀、致密度高、硬度高、具有非常好的耐磨性,且断裂韧性高,不易崩碎,延长了密封环件的使用寿命。   技术的应用领域前景分析:   国内外机械密封环主要采用石墨、超硬合金、碳化硅陶瓷、氧化铝陶瓷等,近年来,采用具有高硬度且高耐腐蚀性、滑动摩擦系数小的碳化硅陶瓷材料制造的密封环件日益增多。但是目前碳化硅陶瓷材料的缺点是断裂韧性较低,能够承受的热冲击温度不够高,而且碳化硅陶瓷是用碳化硅粉,用粉末冶金法经反应烧结或热压烧结工艺制成,能耗较高。   一种机械密封件,包括一对相对滑动的旋转密封环和非旋转密封环,其中该对密封环中的至少一个密封环的基底为铝、镁、钛金属及其合金,同时此密封环的密封面为基底经过微弧氧化生成的一层陶瓷层。   本发明的目的在于,容易且廉价地提供一种强度高,耐磨性好,减少裂纹和崩碎的密封环件。实现本发明目的的技术解决方案为:以铝、镁、钛金属及其合金为基底材料,通过机械成形制成密封环,并在密封环的密封面上通过微弧氧化的方式生成一层陶瓷层。   本发明与现有技术相比,有着显著优点:1.以铝、镁、钛金属及其合金为基底材料可以低成本地大批量生产,微弧氧化处理操作简便稳定。获得的微弧氧化陶瓷层属于基体原位生长陶瓷层,结合牢固,陶瓷层致密均匀、致密度高、硬度高、具有非常好的耐磨性,且断裂韧性高,不易崩碎,延长了密封环件的使用寿命。   2.以铝、镁、钛金属及其合金为基底的易机械加工的材料比碳化硅等烧结成形的陶瓷材料容易实现复杂的结构,可以为剖分式机械密封、密封面开槽密封等机械密封的设计提供更多方案和更加容易实现的手段。   3.获得的微弧氧化陶瓷层可以包含直径为0.5微米—40微米的微孔结构,可以实现5%-40%的孔隙率。   经济收益分析:   由于廉价及环保,可以推广机械密封在国内各行业的应用,减少各种因泄漏引起的污染。特别适用于剖分式密封,干气密封。   备注:正在小批量样品试制中
  技术简介:   本实用新型公开了一种用于旋转机械中的机械密封件,用铝、镁、钛金属及其合金与铝基复合材料作为机械密封环的基底材料,并通过微弧氧化而生成的致密均匀的陶瓷层作为密封面。本实用新型可以低成本地大批量生产;微弧氧化处理操作简便稳定,获得的微弧氧化陶瓷层属于基体原位生长陶瓷层,结合牢固,陶瓷层致密均匀、致密度高、硬度高、具有非常好的耐磨性,且断裂韧性高,不易崩碎,延长了密封环件的使用寿命。   技术的应用领域前景分析:   国内外机械密封环主要采用石墨、超硬合金、碳化硅陶瓷、氧化铝陶瓷等,近年来,采用具有高硬度且高耐腐蚀性、滑动摩擦系数小的碳化硅陶瓷材料制造的密封环件日益增多。但是目前碳化硅陶瓷材料的缺点是断裂韧性较低,能够承受的热冲击温度不够高,而且碳化硅陶瓷是用碳化硅粉,用粉末冶金法经反应烧结或热压烧结工艺制成,能耗较高。   一种机械密封件,包括一对相对滑动的旋转密封环和非旋转密封环,其中该对密封环中的至少一个密封环的基底为铝、镁、钛金属及其合金,同时此密封环的密封面为基底经过微弧氧化生成的一层陶瓷层。   本发明的目的在于,容易且廉价地提供一种强度高,耐磨性好,减少裂纹和崩碎的密封环件。实现本发明目的的技术解决方案为:以铝、镁、钛金属及其合金为基底材料,通过机械成形制成密封环,并在密封环的密封面上通过微弧氧化的方式生成一层陶瓷层。   本发明与现有技术相比,有着显著优点:1.以铝、镁、钛金属及其合金为基底材料可以低成本地大批量生产,微弧氧化处理操作简便稳定。获得的微弧氧化陶瓷层属于基体原位生长陶瓷层,结合牢固,陶瓷层致密均匀、致密度高、硬度高、具有非常好的耐磨性,且断裂韧性高,不易崩碎,延长了密封环件的使用寿命。   2.以铝、镁、钛金属及其合金为基底的易机械加工的材料比碳化硅等烧结成形的陶瓷材料容易实现复杂的结构,可以为剖分式机械密封、密封面开槽密封等机械密封的设计提供更多方案和更加容易实现的手段。   3.获得的微弧氧化陶瓷层可以包含直径为0.5微米—40微米的微孔结构,可以实现5%-40%的孔隙率。   经济收益分析:   由于廉价及环保,可以推广机械密封在国内各行业的应用,减少各种因泄漏引起的污染。特别适用于剖分式密封,干气密封。   备注:正在小批量样品试制中

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