[00875696]分室连续PECVD设备自动控制系统
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技术详细介绍
本研究采用可编程序控制器，根据各反应室中基片、阀门、电极等移动部件的位置及各种真空表、温度计、反应气体压力计等仪表提供的监控信号，按照预定工艺程序全自动控制基片传送过程。主要技术指标如下：基片传送逻辑可根据工艺条件现场编程，操作简单明了；定位精度：水平定位偏差＜±1mm；垂直定位偏差＜±0.5mm；控制系统具备标准扩展接口可与PC机相连接，进一步扩展系统功能。该项成果可应用于非晶硅太阳电池生产线以及类似的连续真空制膜设备中。