[00875778]QAl9-4/Cu同基合金电弧离子镀
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面议
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类型:
非专利
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技术详细介绍
该项目研究QA19-4/Cu电弧离子镀,其从属于新近开发的同基合金离子镀技术。其采用传统的离子镀已是一项成熟的表面改性(合金化)技术。但同基合金离子镀却有重磊的创新之处,由于镀材与基材同基,镀层与渗金属层等效。在铜其上沉积的铝青铜镀层,其含铝量约9%,含铁量约4%,相当于超饱和的渗铝、渗铁层,其性能可超过铜渗铝后再进行氧化的复合表面改性层。这项技术还可用于修复工作。传统的离子沉积技术镀厚小,多限于~4μm的薄膜,原因是膜—基结合强度差,同基合金离子镀方法顺利地解决了这个问题。本研究镀层厚度可高达200μm,且结合强度高,超声划痕试验无剥落信叼便有有力的佐证。
该项目研究QA19-4/Cu电弧离子镀,其从属于新近开发的同基合金离子镀技术。其采用传统的离子镀已是一项成熟的表面改性(合金化)技术。但同基合金离子镀却有重磊的创新之处,由于镀材与基材同基,镀层与渗金属层等效。在铜其上沉积的铝青铜镀层,其含铝量约9%,含铁量约4%,相当于超饱和的渗铝、渗铁层,其性能可超过铜渗铝后再进行氧化的复合表面改性层。这项技术还可用于修复工作。传统的离子沉积技术镀厚小,多限于~4μm的薄膜,原因是膜—基结合强度差,同基合金离子镀方法顺利地解决了这个问题。本研究镀层厚度可高达200μm,且结合强度高,超声划痕试验无剥落信叼便有有力的佐证。