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[00918223]清洁、快速磁控溅射、离子镀膜机

交易价格: 面议

所属行业:

类型: 非专利

交易方式: 资料待完善

联系人:

所在地:

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

清洁、快速磁控、离子镀膜机是深圳大学与深圳市摩尔真空技术有限公司最近开发成功的新一代镀膜机。它采用分子/增压泵取代镀膜机中的油扩散泵,或涡轮分子泵,并对真空室多次周期性充入、抽除Ar,N<,2>等非活性气体,快速降低镀膜室中活性气体的分压强。该项发明可能获得清洁真空,缩短抽气时间50%,降低抽气能耗70%,真空泵的抽速可降至现有设备的1/3以下,经济效益十分显著。应用实例:真空室尺寸:φ800×1,200:Application:Size of vacuum chamber,φ800×1,200(mm)。技术指标或产品性能:能获得清洁真空;抽气时间缩短50%;抽气能耗降低70%;产品质量显著提高。适用范围及市场前景:磁控溅射镀膜、离子镀、PCVD;预抽泵:改造前:2X-70旋片泵;改造后:2X-70旋片泵。主泵:改造前:K-300油扩散泵;改造后:MB200分子/增压泵。主泵抽速:改造前:3000L/s;改造后:1000L/s。前级泵:改造前:2X-70旋片泵;改造后:2X-15旋片泵。主泵机组功率:改造前:10kW;改造后:2.5kW。抽气时间:改造前:40min;改造后:20min。镀膜时间:改造前:10min;改造后:40min。抽气能耗/次:改造前:12度;改造后:3度。合作方式:协商决定。
清洁、快速磁控、离子镀膜机是深圳大学与深圳市摩尔真空技术有限公司最近开发成功的新一代镀膜机。它采用分子/增压泵取代镀膜机中的油扩散泵,或涡轮分子泵,并对真空室多次周期性充入、抽除Ar,N<,2>等非活性气体,快速降低镀膜室中活性气体的分压强。该项发明可能获得清洁真空,缩短抽气时间50%,降低抽气能耗70%,真空泵的抽速可降至现有设备的1/3以下,经济效益十分显著。应用实例:真空室尺寸:φ800×1,200:Application:Size of vacuum chamber,φ800×1,200(mm)。技术指标或产品性能:能获得清洁真空;抽气时间缩短50%;抽气能耗降低70%;产品质量显著提高。适用范围及市场前景:磁控溅射镀膜、离子镀、PCVD;预抽泵:改造前:2X-70旋片泵;改造后:2X-70旋片泵。主泵:改造前:K-300油扩散泵;改造后:MB200分子/增压泵。主泵抽速:改造前:3000L/s;改造后:1000L/s。前级泵:改造前:2X-70旋片泵;改造后:2X-15旋片泵。主泵机组功率:改造前:10kW;改造后:2.5kW。抽气时间:改造前:40min;改造后:20min。镀膜时间:改造前:10min;改造后:40min。抽气能耗/次:改造前:12度;改造后:3度。合作方式:协商决定。

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