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技术详细介绍
电弧离子镀技术是８０年代发展起来的先进镀膜技术。在引进的国外设备与国内自行研制的电弧离子镀设备中，均采用平面电弧源。其存在的主要问题是设备复杂、造价高、装容量小。该成果在保留平面电弧源离子镀系统电离率高、沉积速率高等优点的同时，简化了设备，提高了装容量，解决了柱型靶表面电弧放电的稳定性和控制弧斑运动轨迹技术关键问题。还实现了在柱型靶表面稳定的电弧放电，并通过控制弧斑的运动速度细化了膜层组织，减少了溶滴，提高了镀膜质量。由于柱型电弧源离子镀系统中的阴极靶放在真空室的中央，工件放在柱靶的四周，因而真空室的利用率大大提高，设备造价又可大幅度地降低。如用于氮化钛超硬涂层的生产，可提高刀具的使用寿命三倍以上。