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[01428691]超大规模集成电路(ULSI)用超净高纯微电子化学品生产技术

交易价格: 面议

所属行业: 微电子

类型: 非专利

交易方式: 资料待完善

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产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍

微电子化学品是电子技术微细加工制作过程中不可缺少的关键性基础化工材料之一,主要用于半导体制造过程,用以冲洗晶片及制作研磨剂、蚀刻剂和光刻胶去除剂等。该项目开发的技术可广泛应用于微电子化工材料的分离与纯化,尤其是超大规模集成电路(ULSI,0.09~0.2μm技术)用超净高纯微电子化学品。其中超净高纯双氧水作为电子工业硅片清洗剂、印刷电路板的刻蚀剂,是电子工业不可缺少的精细化学品。超净高纯双氧水(2003年12月22日)和“ULSI用超纯氨水和超纯硝酸试剂纯化的研究”(2006年12月15日)已通过上海市科学技术委员会鉴定,采用了自主开发的纯化集成技术,达到国际先进水平。在国家“863”子项目“ULSI超纯试剂制备工艺研究子项目年产500吨超净高纯过氧化氢的技术开发”、上海市科委基金“ULSI用超纯氨水和超纯硝酸试剂纯化的研究”和企业项目等资助的基础上,已建立一套年产500吨装置超净高纯过氧化氢,其产品质量达到SEMIC12双氧水的标准,金属离子浓度小于0.1ppb,非金属离子浓度小于100ppb。该成果已推广应用于上海、沈阳等地的一些单位。
微电子化学品是电子技术微细加工制作过程中不可缺少的关键性基础化工材料之一,主要用于半导体制造过程,用以冲洗晶片及制作研磨剂、蚀刻剂和光刻胶去除剂等。该项目开发的技术可广泛应用于微电子化工材料的分离与纯化,尤其是超大规模集成电路(ULSI,0.09~0.2μm技术)用超净高纯微电子化学品。其中超净高纯双氧水作为电子工业硅片清洗剂、印刷电路板的刻蚀剂,是电子工业不可缺少的精细化学品。超净高纯双氧水(2003年12月22日)和“ULSI用超纯氨水和超纯硝酸试剂纯化的研究”(2006年12月15日)已通过上海市科学技术委员会鉴定,采用了自主开发的纯化集成技术,达到国际先进水平。在国家“863”子项目“ULSI超纯试剂制备工艺研究子项目年产500吨超净高纯过氧化氢的技术开发”、上海市科委基金“ULSI用超纯氨水和超纯硝酸试剂纯化的研究”和企业项目等资助的基础上,已建立一套年产500吨装置超净高纯过氧化氢,其产品质量达到SEMIC12双氧水的标准,金属离子浓度小于0.1ppb,非金属离子浓度小于100ppb。该成果已推广应用于上海、沈阳等地的一些单位。

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