[00298860]一种能带可调的铜铟铝硒薄膜的制备方法
交易价格：
面议
所属行业：
其他电气自动化
类型：
发明专利
技术成熟度：
正在研发
专利所属地：中国
专利号：CN201410003109.0
交易方式：
技术转让
技术转让
技术入股
联系人：
华东师范大学
进入空间
所在地：上海上海市
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-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要：本发明公开了一种能带可调的铜铟铝硒薄膜的制备方法，其中铜铟铝硒薄膜的组成式为：CuIn1‑xAlxSe2，0≤x≤1，包括步骤：(1)依次使用丙酮、乙醇和去离子水对玻璃衬底进行超声清洗，清洗后置于去离子水中保存；(2)使用磁控溅射方法依次在玻璃衬底上沉积铜铟合金层、铝层、铜层，得到层状的金属薄膜前驱体；(3)将层状的金属薄膜前驱体和硒粉置于石墨盒中，进行后硒化处理，得到能带可调的铜铟铝硒薄膜。本发明通过控制溅射铜铟合金靶和铝靶的时间固定，而改变溅射铜靶的时间，从而获得不同组分比的铜铟铝硒薄膜，实现铜铟铝硒薄膜材料能带的调节。本发明方法简单方便，可实现铜铟铝硒薄膜的能带在微小范围内实现调节。
摘要：本发明公开了一种能带可调的铜铟铝硒薄膜的制备方法，其中铜铟铝硒薄膜的组成式为：CuIn1‑xAlxSe2，0≤x≤1，包括步骤：(1)依次使用丙酮、乙醇和去离子水对玻璃衬底进行超声清洗，清洗后置于去离子水中保存；(2)使用磁控溅射方法依次在玻璃衬底上沉积铜铟合金层、铝层、铜层，得到层状的金属薄膜前驱体；(3)将层状的金属薄膜前驱体和硒粉置于石墨盒中，进行后硒化处理，得到能带可调的铜铟铝硒薄膜。本发明通过控制溅射铜铟合金靶和铝靶的时间固定，而改变溅射铜靶的时间，从而获得不同组分比的铜铟铝硒薄膜，实现铜铟铝硒薄膜材料能带的调节。本发明方法简单方便，可实现铜铟铝硒薄膜的能带在微小范围内实现调节。
